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APPAREIL DE MESURE XRF A L'ECHELLE NANOMETRIQUE

Revêtements métalliques

FT160

Appareil d’analyse pour la mesure rapide, précise et reproductible d’épaisseurs de revêtements et matériaux métalliques ultra-minces (échelle nanométrique)

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FT160

Conçu pour relever le défi des revêtements ultra-minces désormais de plus en plus présents dans les composants électroniques du fait de leur miniaturisation, le FT160 garantit des résultats rapides, précis et reproductibles.

La précision de la platine de positionnement associée à l’optique poly-capillaire à rayons X permettent de mesurer des revêtements à l’échelle du nanomètre sur des éléments inférieurs à 50 µm.

Simple à utiliser, l’équipement s’intègre facilement à votre processus AQ/CQ, vous alertant des problèmes avant qu’ils ne deviennent critiques.

PRINCIPALES CARACTÉRISTIQUES

Avec son optique de focalisation poly-capillaire à rayons X et son détecteur à dérive en silicium (Silicon Drift Detector), le FT160 garantit une grande précision et permet une cadence de mesure élevée.

De plus, la caméra haute définition (zoom numérique 16X) rend les surfaces des semi-conducteurs et des circuits imprimés faciles à voir et à parcourir.

Enfin, le capot fermé du FT160 minimise grandement le risque de fuite de rayons X et sa grande surface vitrée améliore la visualisation de l’échantillon et l’ergonomie de l’instrument.

 

Spécifications Techniques

SDD haute résolution
Gamme d'éléments
AI - U
Chamber design
closed
Options de la platine XY
motorisée, wafer
Plus grand échantillon
600 x 600 x 20 mm
Filtres
5
Taille de la tâche optique polycapillaire
< 30 µm
Logiciel du contrôleur XRF

La méthode est en constante amélioration, les spécifications sont donc susceptibles de changer sans avertissement préalable

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