APPAREIL DE MESURE XRF A L'ECHELLE NANOMETRIQUE

FT160

Conçu pour relever le défi de mesure des revêtements ultra-minces désormais de plus en plus présents dans les composants électroniques du fait de leur miniaturisation, le FT160 garantit des résultats rapides, précis et reproductibles.

La précision de la platine de positionnement associée à l’optique poly-capillaire à rayons X permettent de mesurer des revêtements à l’échelle du nanomètre sur des éléments inférieurs à 50 µm.

Simple à utiliser, l’équipement s’intègre facilement à votre processus AQ/CQ, vous alertant des problèmes avant qu’ils ne deviennent critiques.

PRINCIPALES CARACTÉRISTIQUES

Avec son optique de focalisation poly-capillaire à rayons X et son détecteur à dérive en silicium (Silicon Drift Detector), le FT160 de chez notre partenaire HITACHI garantit une grande précision et permet une cadence de mesure élevée.

De plus, la caméra haute définition (zoom numérique 16X) rend les surfaces des semi-conducteurs et des circuits imprimés faciles à voir et à parcourir.

Enfin, le capot fermé du FT160 minimise grandement le risque de fuite de rayons X et sa grande surface vitrée améliore la visualisation de l’échantillon et l’ergonomie de l’instrument.